真空鍍膜技術的應用領域

在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f，沒有薄膜技術，就沒有平板顯示器件。

在太陽能利用方面

當需要有效地利用太陽熱能時，就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。理想的選擇吸收面，是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效地利用太陽熱能，就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。

理想的選擇吸收面，是太陽輻射光譜的波段（可見光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。

在防偽技術中

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

在飛機防護涂層方面

飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產生“鎘脆”，甚至引起“空難”。

1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

在光學儀器中

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

在信息存儲領域中

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優(yōu)勢：

由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。

在傳感器方面

在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半導體的表面、界面的性質，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。

在集成電路制造中

晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。

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真空鍍膜設備的日常維護

真空鍍膜設備的運行狀況直接影響生產工藝、產品質量和生產進程等，為了使設備的運行狀況良好，必須建立和完善設備的維護與維修制度、維護內容、維修標準等。

設備的維護要有日常維護和定期維護

1,日常維護就是在當天生產中發(fā)現設備有不良跡象，就馬上解決。設備的維護要有日常維護和定期維護1,日常維護就是在當天生產中發(fā)現設備有不良跡象，就馬上解決。發(fā)現機械泵的油少了就要添加，不要認為這油是定期更換的，等到了時間再維護，到時候可能泵的轉子就會磨損嚴重了。再比如工件轉架的軸承有些卡，就要更換軸承，而等到它徹底的壞了再換，問題可就大了，可能引起轉架電機燒毀等現象。

2定期維護，有人會問有了日常維護還有必要定期維護嗎?其實每一種設備都有自己的使用壽命，比如擴散泵用的的硅油，使用壽命為兩年左右，我就規(guī)定1年半把它換掉，這樣作是不是浪費，我覺得不浪費，從設備服務于生產來說是值得的，老板不希望看到的是機器在生產階段出現問題。如：某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度，選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg，1好能達到1mmHg。只要你把日常維護和定期維護做好了，在延長設備壽命的同時，生產過程中出現故障的幾率也大大降低。生產效率也提高了。

3,設備保養(yǎng)和維修1重要的是講究“細心”，每一個人都力求做到“我辦事，你放心”，也就是說我做的事情不需要別人和自己再有懷疑!做好這一點可少走好多彎路，其次是要善于分析現象，不能盲目的拆卸。通常真空室內漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細縫中發(fā)生，當抽氣系統抽氣后使真空室內壓強降低，外部與內部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內，形成真空度降低。說到這里，很多人都遇到過真空方面的漏氣問題，真空部分出現了問題很麻煩，再加上我們公司沒有檢漏儀，這就要分階段來找。

真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。油擴散泵主要由泵殼、噴嘴、導流管和加熱器組成，里面主要添加擴散泵油（日本的型號是D-704#），根據噴嘴的多少可以分為單級泵和多級泵。真空狀態(tài)需要抽氣系統來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。真空室是真空設備的一個主要組成部位，真空鍍膜設備真空室設計主要考慮的就是密封性和可靠性，結構必須要合理，真空設備的材料生產都是在真空室內進行的，材料對真空度的影響要小，設計不能馬虎，要注意一些問題?！?